Intel’in 10 nm Hedefi
Teknoloji geliştikçe daha verimli güç tüketimi, daha az ısınma ve daha düşük maliyet gibi sebeplerden sürekli küçülen silikon üretim işlemi, 60 nm ve hatta bazı yongalarda 45 nm seviyesine inmiş durumda. Intel ise, Moore kuralını esas alarak yaptığı planlamalarda 10 nanometre işlem sürecine kadar inmeyi hedefliyor.
Öne Çıkanlar
Bir Zamanlar 100 nm Hayaldi
Intel’den Pat Gelsinger, önümüzdeki 10 yıl içerisinde Intel yongaları 10 nanometre silikon işlem ile üretmeye başlayacaklarını öngördü. Bir zamanlar Intel’deki ekip arkadaşlarıyla birlikte 100 nm yongalar üretmenin hayalini kurduklarını söyleyen Gelsinger, Intel kurucuları Robert Noyce ve Gordon Moore‘un ilk başladıklarında sadece altı element ile yonga ürettiklerini kaydetti.
Şimdilerde ise periyodik tabloda yer alan elementlerin neredeyse yarısını kullandıklarını belirten Gelsinger, 10 nm seviyesine erişebilmek için daha da fazla element eklenmesi gerektiğine dikkat çekti. Bakalım 10 yıl sonra Intel verdiği sözü tutabilecek mi.
Yazan: Erhan Kahraman
SDN – http://shiftdelete.net
Yorumunuz gönderildi,
onaylandıktan sonra yayımlanacak.
önemli olan element sayısı değil. sonuçta karbonla yapılan elementlerin sayısı tüm periyodik tablodaki elementlerin tümünün yaptıkları bileşiklerden daha fazla….
Hocam Tamamda olay element sayısında değil doğru diyon. haklısın. İntel yanılıyor….
Geçenlerde bi dergide okudum Science of Electronical diye bi dergiydi. 5 sene içinde piko metrelere bile inilebilir diyodu. bu işin sonu nereye gider acaba diye düşünmeden edemiyor insan. yakında görünmeyen devreler çıkarsa şaşırmayın….
şimdiki devreleri görebiliyor musun?…
Ben bir yerlerde sadece 1 nanometre boyunda yonga yapılabildiğini duydum.
Sırada atom işlemciler var tabii….