Her ne kadar komplo teorileri bize Intel’in araştırma merkezlerinde çoktan 3-5 nanometrenin çalışmalarının başladığı yönünde bilgi verse de, MIT‘deki araştırmalar şu an için 25 nanometrelik çukur ve çıkıntıları silikon üzerine çizebilecek kadar iyi durumda. Intel’ın şu sıralarda 32 nanometre için üretim aşamasına geçmiş olduğunu düşünürsek, üretim süreci düştükçe arada gereken ar-ge süresinin ne kadar uzadığını anlayabiliyoruz.
Olay Ne Aşamada?
Şu an için MIT Space Nanotechnology Laboratory‘de işlemcilerde uygulanacak üretim sürecine benzer şekilde, silikon plaka üzerinde sadece birbirinden ayrık çizgiler çekilebiliyor. Bunu yaparken önce birbirinden 175 nm uzaklıkta çizgiler çekmeye başlıyorlar. araları doldurmak için de kullanılan lazeri 50 nanometre kımıldatıyorlar. Bu şekilde 25 nanometre aralıklı çizgiler ve çukurlar oluşuyor. Tabii işlemci üretimi için bu sistemin çok daha keskin yeteneklere sahip olması gerekecek.
Yazan: Berkin Bozdoğan
SDN – http://shiftdelete.net
Ne Düşünüyorsunuz?
